凯发K8旗舰厅AG登录日月新申请一种新型集成电路曝光方法专利可实现大曝光场多芯片

2026-04-26 20:11:05

　　国家知识产权局信息显示★★，日月新先进技术研究（昆山）有限公司申请一项名为“一种新型集成电路曝光方法”的专利★★，公开号CN121832207A★★，申请日期为2026年1月金沙水磨坊凯发K8旗舰厅AG登录★★。

　　专利摘要显示★★，本发明公开了一种新型集成电路曝光方法★★，本发明属于半导体制造领域★★，包括步骤一★★：根据晶圆目标曝光区域的大小设定机台步进移动量★★，设定晶圆目标曝光区域X方向大小为M★★，Y方向大小为N★★；步骤二★★：将所述晶圆目标曝光区域拆分为若干组曝光单元★★，所述曝光单元的X和Y方向均需包含整数倍的芯片数量★★，将晶圆目标曝光区域范围拆分为对应的若干组光罩★★，所述光罩与曝光单元相对应★★，所述光罩X和Y方向的尺寸需是一种或多种芯片数量的整数倍★★，同时光罩的拼接处设置于切割道★★，所述切割道的所在位置无开窗图案★★。本发明可实现大曝光场多芯片设计晶圆的精准曝光凯发K8旗舰厅AG登录★★，进而有效提升产品凸点封装的曝光场适配尺寸与工艺承载能力★★，适用于全品类后道凸点封装工艺领域★★。

　　天眼查资料显示金沙水磨坊★★，日月新先进技术研究（昆山）有限公司★★，成立于2024年金沙水磨坊★★，位于苏州市金沙水磨坊凯发K8旗舰厅AG登录★★，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业★★。企业注册资本50万美元金沙水磨坊★★。通过天眼查大数据分析★★，日月新先进技术研究（昆山）有限公司参与招投标项目3次★★，专利信息31条★★，此外企业还拥有行政许可6个金沙水磨坊★★。

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